小型蒸鍍儀的真空蒸發(fā)鍍膜法是在真空條件下加熱蒸發(fā)容器中的待蒸發(fā)材料，使其原子或分子氣化并從表面逸出，形成蒸汽流，進(jìn)入社會(huì)到基材的方法，或基材表面，并凝結(jié)成固體薄膜，特別適用于一些輕金屬的蒸發(fā)。同時(shí)也可以對(duì)樣品進(jìn)行鍍碳?？杉庸悠分睆綖?0mm，可提供100A鍍膜電流，蒸發(fā)溫度可達(dá)1800℃，可滿足各種普通金屬和部分非金屬的蒸發(fā)。真空室采用高純度石英，具有鍍膜過(guò)程易觀察、易清洗等優(yōu)點(diǎn)；結(jié)合分子泵組，可達(dá)到5x10-4pa的極限真空，可有效保證蒸鍍膜的純度和附著力。

　　小型蒸鍍儀將待鍍膜的基材或工件置于真空室中，通過(guò)加熱使鍍層材料蒸發(fā)汽化，并與基材或工件表面沉積，形成薄膜或涂層。配備高級(jí)質(zhì)飛躍真空泵。

　　小型蒸發(fā)儀包括以下基本流程：

　　(1)加熱蒸發(fā)過(guò)程：包括由凝相轉(zhuǎn)變?yōu)闅庀嗟倪^(guò)程。每種蒸發(fā)物質(zhì)在不同溫度下具有不同的飽和蒸氣壓。

　　(2)氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基板之間的傳輸，即原子或分子在環(huán)境大氣中的飛行過(guò)程。

　　(3)蒸發(fā)是原子或分子在基材表面的沉積。即蒸發(fā)、冷凝、成核、核生長(zhǎng)，形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠(yuǎn)低于蒸發(fā)源溫度，氣態(tài)分子將在基板表面發(fā)生從氣態(tài)到固態(tài)的直接相變。

　　1、將需要濺射的基板材料放入蒸發(fā)儀的腔體中。

　　2、根據(jù)被蒸發(fā)物料選擇金屬蒸發(fā)頭/鎢籃或碳蒸發(fā)頭，按照儀器操作規(guī)程的簧片步驟安裝被蒸發(fā)物料。使用碳棒蒸發(fā)頭時(shí)，一根電極線接儀器后面的黑洞，另一根電極線接紅孔；使用金屬蒸發(fā)頭時(shí)，一根電極線連接儀器后面的黑洞，另一根電極線連接綠色孔。

　　3、按小型蒸鍍儀操作規(guī)程逐步操作儀器，實(shí)驗(yàn)結(jié)束時(shí)取出樣品。由于長(zhǎng)期使用會(huì)在腔體周圍沉積一層厚厚的涂層，請(qǐng)根據(jù)實(shí)際情況及時(shí)清潔腔體。但橡膠圈不能用丙酮、乙醇等有機(jī)試劑清洗，以免老化造成漏氣，關(guān)閉主機(jī)電源和電源。切斷儀器的主電源，蓋上儀器。