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簡要描述:GaN易與AlN、InN等構(gòu)成混晶,能制成各種異質(zhì)結(jié)構(gòu),已經(jīng)得到了低溫下遷移率達(dá)到105cm2/Vs的2-DEG(因?yàn)?-DEG面密度較高,有效地屏蔽了光學(xué)聲子散射、電離雜質(zhì)散射和壓電散射等因素).科晶公司將為您提供高品質(zhì)低價位的氮化鎵晶體和基片。
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產(chǎn)品名稱: | 氮化鎵(GaN)晶體基片 | ||||||||||||||||
產(chǎn)品簡介: | GaN易與AlN、InN等構(gòu)成混晶,能制成各種異質(zhì)結(jié)構(gòu),已經(jīng)得到了低溫下遷移率達(dá)到105cm2/Vs的2-DEG(因?yàn)?span style="font-family:arial">2-DEG面密度較高,有效地屏蔽了光學(xué)聲子散射、電離雜質(zhì)散射和壓電散射等因素).科晶公司將為您提供高品質(zhì)低價位的氮化鎵晶體和基片。 | ||||||||||||||||
技術(shù)參數(shù): |
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產(chǎn)品規(guī)格: | 晶體方向: <0001>;常規(guī)尺寸:dia50.8mm±1mm x 0.35mm ±25um; 注:可按照客戶要求加工尺寸及方向。 | ||||||||||||||||
標(biāo)準(zhǔn)包裝: | 1000級超凈室100級超凈袋或單片盒裝 |
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