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箱式爐主要供合金鋼制品、各種金屬機(jī)件正火、淬火、退火等熱處理之用，或金剛石等切割刀片進(jìn)行高溫?zé)Y(jié)用途。廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機(jī)械、耐火材料、新材料開發(fā)、特種材料、建材等領(lǐng)域的生產(chǎn)及實驗。熱電偶將爐溫轉(zhuǎn)變成電壓信號后，加在微電腦溫度控制調(diào)節(jié)儀上。調(diào)節(jié)儀將此信號與程控設(shè)定相比較，輸出一個可調(diào)信號。再用可調(diào)信號控制觸發(fā)器，再有觸發(fā)器觸發(fā)調(diào)壓器，達(dá)到調(diào)節(jié)電爐電壓和電爐溫度的目的。箱式爐的維護(hù)注意事項1.爐子使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤1小時，在300℃左右...

1200℃開啟式管式爐具有基礎(chǔ)溫度低、沉積速度快、成膜質(zhì)量好、針孔少、不易開裂等優(yōu)點；在此過程中，由于等離子體中的高速電子撞擊中性反應(yīng)氣體分子，中性反應(yīng)氣體分子會變成碎片或處于活化狀態(tài)，容易發(fā)生反應(yīng)；在射頻的幫助下，含有薄膜原子的氣體在局部形成等離子體，等離子體具有很強(qiáng)的化學(xué)活性，易于反應(yīng)在基板上沉積所需的薄膜；高真空系統(tǒng)由兩級旋片真空泵和分子泵組成，真空度可達(dá)0.001pa；數(shù)字質(zhì)量流量控制系統(tǒng)由多通道質(zhì)量流量計和流量顯示儀表組成，實現(xiàn)氣體流量的精確測量和控制；每條燃?xì)夤艿?..

管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負(fù)極材料，新能源，磨具等行業(yè)，測定材料在一定氣溫條件下的專業(yè)設(shè)備。爐型結(jié)構(gòu)簡單，操作容易，便于控制，能連續(xù)生產(chǎn)。管式爐使用的注意事項注意一電爐操作工應(yīng)具備國家相應(yīng)電氣設(shè)備操作資格，并熟讀隨機(jī)儀表說明書等技術(shù)文件!溫度系統(tǒng)操作:用戶開關(guān)板給電爐送電，此時程序表得電，按溫度儀表(如右圖)說明書設(shè)定儀表(如P、I、D參數(shù))，按工藝要求編制加熱程序，打開加熱旋鈕,使加熱功率到達(dá)6KW。加熱功率可按下式計算:加熱功率=儀表電壓×儀表電流正常加熱...

就像把石頭扔進(jìn)平靜的湖水會濺出水一樣，用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子（或分子）從固體表面逃逸。這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發(fā)射原子。早期的人們認(rèn)為，這種現(xiàn)象源于目標(biāo)的局部加熱。然而，人們發(fā)現(xiàn)濺射和蒸發(fā)有本質(zhì)區(qū)別，人們逐漸認(rèn)識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結(jié)果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動，提高電子的電離率。與傳統(tǒng)濺射相比，具有“低溫”和“高速”兩大特點。磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標(biāo)準(zhǔn)化的特點。磁...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀采用前開門真空室設(shè)計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發(fā)源之間的距離有較大的調(diào)節(jié)范圍，可適應(yīng)多種蒸發(fā)要求，避免樣品在蒸發(fā)源中高處損壞。高真空蒸發(fā)鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發(fā)源和水冷銅電極。每個蒸發(fā)源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現(xiàn)多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉(zhuǎn)、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設(shè)備真空系統(tǒng)為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統(tǒng)，可提供潔凈無油的高真空環(huán)境。該設(shè)備配有氣動閥門系統(tǒng)。通過操作...

多功能試樣表面處理機(jī)是一種用于掃描電子顯微鏡和電子探針樣品制備的設(shè)備?？稍诟呒儦鍤獗Ｗo(hù)下進(jìn)行多種離子處理。也可以對碳和金屬進(jìn)行真空蒸鍍。該設(shè)備處理的樣品既可用于樣品的形貌觀察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更適合。該設(shè)備采用分子泵和機(jī)械泵組成的高真空單元系統(tǒng)。試樣以三種方式移動：平面旋轉(zhuǎn)、傾斜旋轉(zhuǎn)和傾斜進(jìn)動。多功能試樣表面處理機(jī)功能可以賦予材料新的表面特性。這些特性隨時間逐漸衰減的特性稱為老化。一般認(rèn)為，等離子體表面處理對材料的影響涉及到表面活化、交聯(lián)、表面蝕刻等多個...

熱噴涂鍍膜設(shè)備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內(nèi)，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團(tuán)或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結(jié)法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產(chǎn)。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復(fù)雜，特別是在合金靶材的生產(chǎn)中，成分不*均勻。靶材的大尺寸和高利用率是涂層領(lǐng)域的新趨勢，熱噴涂鍍膜設(shè)備等離子噴涂的諸多特點顯示出其在生產(chǎn)大尺寸、高利用率靶材方面的*優(yōu)勢。1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點粉...