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小型蒸鍍儀是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如Al.Mg,和Li等。同時也可對樣品進行鍍碳處理，zui大可處理的樣品直徑為50mm。小型蒸鍍儀的使用可分為34步，即蒸鍍前準備工作、蒸鍍儀的預(yù)熱、蒸鍍薄膜以及關(guān)機.1、蒸鍍前準備工作：1.1）開充氣閥，對鐘罩內(nèi)充氣，再升鐘罩；1.2）根據(jù)鐘罩內(nèi)是否清潔，先使用酒精清洗鐘罩內(nèi)的零部件；1.3）安裝鉬舟，并將鋁絲條放入鉬舟中，并將所要沉積的襯底粘附于鋁板上；1.4）降鐘罩，在鐘罩下降的同時要觀察是否存在物品及雜物存在于鐘...

3靶等離子濺射儀的使用分3個步驟，即裝樣品、抽真空、濺射，待廠家為您一一講解：一、裝樣品1、充氣：打開充氣旋鈕，使得空氣進入鐘罩。2、開電源總開關(guān)，接通電源。3、升鐘罩：將“升”開關(guān)撥到下方，待鐘罩升到合適位置時，按住“停”按鈕，鐘罩停止上升，將“升”開關(guān)撥回到上方。4、放樣品：將放有樣品的載物臺固定到鐘罩中。5、降鐘罩：按一下“降”按鈕，鐘罩開始往下降，降到適當?shù)奈恢檬沟苗娬置芊鈺r自動停止。（注意，在鐘罩將要降到底時可以在前邊稍往上抬鐘罩，以保證鐘罩的密封效果，利于后面的真...

高真空蒸發(fā)鍍膜儀應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是*的一項技術(shù)。由真空鍍膜室、蒸發(fā)源、真空機組、卡具、蒸發(fā)電源、控制系統(tǒng)與輔助裝置等組成。高真空蒸發(fā)鍍膜儀主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。在高真空蒸發(fā)鍍膜儀的使用中，有3大要素是需要用戶特別留意：清潔真空鍍膜機每完成200個鍍膜程序以上，應(yīng)清潔工作室一次。方法是：用燒堿（NaOH）飽和溶液反...

等離子鍍膜設(shè)備是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。等離子鍍膜設(shè)備優(yōu)勢：1、AF噴涂設(shè)備采用原裝德國進口納米噴頭，噴頭采用高低壓轉(zhuǎn)換霧化設(shè)計，使液態(tài)分子極精細，且不影響藥水效果；2、鋨存儲器可拆卸：具有密封式結(jié)構(gòu)，可冷凍保存；3、理論設(shè)計產(chǎn)能3000片-4000片/小時；4、噴嘴運...

真空管式爐是在真空環(huán)境中進行加熱的設(shè)備，一般由爐膛、電熱裝置、密封爐殼、真空系統(tǒng)、供電系統(tǒng)和控溫系統(tǒng)等組成。真空爐按加熱元件分為真空電阻爐、真空感應(yīng)爐、真空電弧爐、真空自耗電弧爐、電子束爐和等離子爐等。真空管式爐一般在春秋季節(jié)泄漏故障較多，長期閑置的真空爐在才次使用時真空爐泄漏故障比較易發(fā)生。這時間就必須進行真空檢漏，真空檢漏一般采取每月一次測壓升率(在常溫下，關(guān)閉所有真空閥，停止真空系統(tǒng)運轉(zhuǎn)，1Omin后讀一個數(shù)，1h后再讀一個數(shù)，兩數(shù)之差是壓升率的數(shù)值)，掌握設(shè)備泄漏變化...

小型真空管式爐的成套供應(yīng)范圍有溫度控制器、熱電偶、補償導(dǎo)線等。溫度控制有繼電器控制、可控硅控制二種，由于是間歇式作業(yè)爐，一般都采用40段PlD可編程控制，能嚴格控制產(chǎn)品的燒制過程。小型真空管式爐安裝注意事項1、電爐不需特殊安裝,只需平放在室內(nèi)地面或臺架上。控制器應(yīng)放在工作臺上，工作臺面的傾斜度不得超過5度?？刂破麟x電爐zui小距離不得少于0.5米?？刂破鞑灰朔旁陔姞t上面，以免影響控制器正常工作。2、檢查接線無誤后即可通電，首先合上電源開關(guān),然后將控制器面板上的鈕子開關(guān)拔向開的...

小型真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。其特點是安全可靠、節(jié)能、升降溫度速度快、耗能低、使用壽命。小型真空管式爐在使用的時候，為了保證其使用壽命，需要注意以下細節(jié)，一起來看看吧！1、爐子使用或長時間不用后，要在120℃左右烘烤1小時，在300℃左右烘烤2小時后使用，以免造成爐膛開裂。爐溫盡量不要超過額定溫度，以免損壞加熱元件及爐襯。禁止向爐膛內(nèi)直接灌注各種液體及溶解金屬，保持爐內(nèi)的清潔...