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OTF-1200X-S-FB是一款流化床立式管式爐，專門針對粉末表面沉積的CVD實驗，爐管為高純石英管，爐管內(nèi)部嵌有一多孔石英板，石英板的孔徑為5-15um.粉末可放在多孔石英板上，氣體可從爐管下端通入，通過多孔石英板使樣品顆粒懸浮在加熱區(qū)域，進行沉積實驗。

OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相轉(zhuǎn)變和微結(jié)構(gòu)性能。

GSL-1600X-R60-II是一款高溫雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)爐。此款設備專門設計對粉體在高溫狀態(tài)下，進行均勻的燒結(jié)。

OTF-1200X-4-R 是一款單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)管式爐，為煅燒無機化合物獲得較好的*性而設計。特別對鋰離子電池負極材料的制備效果*，可提高導電性?；蛘邞迷诜垠w材料上涂層，如LiFePO4, LiMnNiO4等材料的研究和開發(fā)實驗室。

OTF-1200X-50-SL是一款CE認證的可滑動管式爐，配置外徑50x 1000mm石英管，工作溫度Z高達1200°C。爐底安裝一對滑軌，可滑動。加熱和冷卻速率Z大可達100°C/m。為取得Z快加熱，可以預先加熱爐子到設定的溫度，然后移動爐子到樣品位置。為獲得Z快冷卻，可在樣品加熱后移動爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達到15°C/s，是低成本快速熱處理的理想

OTF-1200X-4-RTP 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4" 石英管和真空法蘭， 它是專為半導體或太陽能電池基片（Z大達3“）的退火而設計，采用10KW紅外燈管加熱Z快升溫速度為 50°C/秒. 30 段溫度控制，精度為 +/-1°C. 計算機通過RS485口和控制軟件實時控制爐子和顯示溫度曲線 。