多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐

簡要描述：OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設(shè)備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成?？膳c準分子激光器配合，進行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜，而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發(fā)。此款設(shè)備特別適合制作多元化合物薄膜。

產(chǎn)品型號：OTF-1200X-PLD
廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家
更新時間：2024-10-22
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詳細介紹

OTF-1200X-PLD是一款多靶激光濺射混合霧化沉積管式爐，此款設(shè)備主要包括混氣裝置，加熱爐，基片加熱腔體、靶材濺射腔體和氣壓控制系統(tǒng)組成?？膳c準分子激光器配合，進行脈沖激光蒸發(fā)鍍膜，而且靶材濺射腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，可依次對3中不同靶材進行激光脈沖蒸發(fā)。此款設(shè)備特別適合制作多元化合物薄膜。

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品特點	可與準分子激光器配合進行PLD制膜腔體內(nèi)部可安裝多塊靶材，進行多靶激光蒸發(fā) 腔體內(nèi)部靶材可旋轉(zhuǎn) 可對基片加熱（zui高溫度可達1200℃）
加熱爐（對基片加熱）	雙層殼體結(jié)構(gòu)，并帶有風冷系統(tǒng)，使殼體表面溫度小于60℃ 加熱元件：摻鉬鐵鉻鋁合金（表面涂有氧化鋯涂層） zui高工作溫度：1200℃ zui大功率：1.2KW
腔體	基片加熱腔體為高純石英材料靶材蒸發(fā)腔體為不銹鋼材料靶材蒸發(fā)腔體內(nèi)可安裝3塊靶材，并且靶材可旋轉(zhuǎn)（轉(zhuǎn)速：0-30rmp）兩個腔體通過卡箍式法蘭連接（可點擊圖片查看詳細資料）
真空度	10^-2Torr(采用機械泵) 10^-5Torr(采用渦旋分子泵) 可在本公司購買各種真空泵
窗口	采用藍寶石（Al2O3）尺寸：Φ25*0.5mm 允許激光的入射角度為30°-90°
壓力控制系統(tǒng)	一套壓力控制系統(tǒng)安裝在儀器的腔體上，可保證腔體內(nèi)部的氣壓恒定與混氣系統(tǒng)配合使用，可保證蒸發(fā)腔體中各種氣體的分壓恒定
混氣系統(tǒng)	配有2路質(zhì)量流量計混合系統(tǒng) 混氣罐尺寸：Φ80X120mm zui大氣壓：3×106Pa 精度：±1%FS 質(zhì)量流量計量程：1:1-199sccm 2:1-499sccm 可按客戶要求訂制其他量程的質(zhì)量流量計可選購3-5路混氣系統(tǒng)
等離子射頻電源（可選購）	可在設(shè)備上安裝300W等離子射頻電源，使腔體內(nèi)的氣體等離子化，達到等離子化激光蒸發(fā)反應鍍膜
質(zhì)保期	一年質(zhì)保期，終生維護（不包括密封圈、石英腔體和加熱元件）
儀器尺寸	1300mm1260mm820mm
質(zhì)量認證	CE質(zhì)量認證所有電器元件（>24V）都通過UL / MET / CSA認證若客戶出認證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認證或CAS認證