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  • OTF-1200X-5L-R-CVD5英寸旋轉(zhuǎn)CVD管式爐

    OTF-1200X-5L-R-CVD是一款旋轉(zhuǎn)CVD爐。爐體有3個加熱區(qū),可提高溫度均勻性,同時配有4通道的精密混氣系統(tǒng)。此款管式爐設(shè)計主要用于電池粉體材料表面包覆或其他粉體材料表面修飾。設(shè)備相關(guān)論文(點擊查看)

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    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    更新日期:2025-02-11
  • OTF-1200X-4-R-II-AF1200℃ 4英寸雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)CVD管式爐

    OTF-1200X-4-R-II-AF是一款4英寸雙溫區(qū)回轉(zhuǎn)CVD管,安裝有自動送料器和收料罐。自動可定份額地將粉料送入到爐管中,此過程可在氣氛保護環(huán)境下進行,可實現(xiàn)用連續(xù)CVD方法對粉體材料進行包覆和修飾。收料罐可在氣氛保護環(huán)境下對處理好的粉料進行收集。此款管式爐設(shè)計主要是在鋰離子電池的陰極材料(如LiFePO3, LiMnNiO3)上包覆導(dǎo)電層,同時也可用CVD方式制備 Si/C 陽極材料。

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    更新日期:2025-02-11
  • OTF-1200X-50-II-PE-MPECVD管式爐(帶有預(yù)熱系統(tǒng)的滑動)

    OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PE-CVD管式爐系統(tǒng),組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐,預(yù)熱爐(作用為使固體原料蒸發(fā))和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。

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    更新日期:2025-02-11
  • TCVD--OTF-1200X-S2-50SL小型雙爐體滑動管式爐

    OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐,爐管為Φ50×1400mm的石英管,并配有不銹鋼密封法蘭,儀器Z高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動,實現(xiàn)對原材料的蒸發(fā)/升華,及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現(xiàn)對樣品快速加熱,Z大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質(zhì)量流量計(MFC)控制的供氣系統(tǒng)和等離子射頻電源來搭建TCVD系統(tǒng)。

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    更新日期:2025-02-10
  • 1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)-GSL-1700X-4-HVC

    GSL-1700X-4-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統(tǒng),其爐管直徑為4英寸,它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成,其Z高工作溫度可達1600℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr?;鞖庀到y(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。

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  • 1200°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)-OTF-1200X-HVC

    OTF-1200X--HVC是由OTF-1200X-單溫區(qū)管式爐,二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成。其Z高工作溫度可達1200℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr。混氣系統(tǒng)可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。

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    更新日期:2025-02-10
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