當前位置:首頁 > 產(chǎn)品中心 > 薄膜制備全套設備 > 濺射源及真空腔體
相關文章
HVMSS-SPC-2是一款可安裝直徑為2英寸靶材的磁控濺射頭,可適用的靶材種類較廣,如金屬/絕緣靶材或磁性/非磁性靶材。環(huán)形NdFeB永磁體安裝在濺射頭上,以保證濺射鍍膜的效率和均勻性。此款濺射頭可與DC或RF電源配合使用。
500W直流濺射電源--DC-500-LD
HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控濺射頭,可安裝直徑為1英寸的靶材。可與直流、脈沖直流和射頻電源相匹配,以至于可以濺射各種靶材(如金屬、陶瓷、磁性和非磁性靶材等)。而且高真空的結構設計,可提高鍍膜質量。
本公司提供高真空腔體,客戶可自行為一些實驗搭建真空系統(tǒng),如等離子濺射,CVD或ALD等實驗,同時也可作為高真空儲存箱。
RF-100-LD是一款小型手動匹配100WRF(射頻)電源,頻率為13.56MHz.此設備設計專門與本公司的1英寸的磁控濺射頭配用,可搭建起一套比較廉價的濺射鍍膜系統(tǒng),用于制作非導電薄膜。
聯(lián)系我們
中美合資合肥科晶材料技術有限公司 公司地址:安徽省合肥市蜀山區(qū)科學院路10號 技術支持:化工儀器網(wǎng)掃一掃 更多精彩
微信二維碼
網(wǎng)站二維碼